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ASM申请用于选择性沉积含金属材料的方法和组件专利,通过循环气相沉积技术在半导体衬底不同表面选择性沉积含金属材料:金属材料
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金融界2025年7月1日消息,国家知识产权局信息显示,ASMIP私人控股有限公司申请一项名为“用于选择性沉积含金属材料的方法和组件”的专利,公开号CN120231010A,申请日期为2024年12月
2025-08-14
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