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    LG伊诺特申请用于OLED像素沉积金属材料的沉积掩模专利,涉及一种用于沉积用于OLED像素沉积的金属材料的沉积掩模:金属材料

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    金融界2025年5月22日消息,国家知识产权局信息显示,LG伊诺特有限公司申请一项名为“沉积掩模”的专利,公开号CN120006212A,申请日期为2018年10月金属材料。专利摘要显示,实施例涉及

    2025-08-14
1 共1页

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